自動化等離子清洗機
文章導讀:自動化等離子清洗機是能夠自動化處理產(chǎn)品的設(shè)備,比如在半導體封裝行業(yè)的應用,從上貨、處理、下貨都能機械自動化操作,節(jié)省人力資源,提高整體生產(chǎn)效率。
自動化等離子清洗機是能夠自動化處理產(chǎn)品的設(shè)備,比如在半導體封裝行業(yè)的應用,從上貨、處理、下貨都能機械自動化操作,節(jié)省人力資源,提高整體生產(chǎn)效率。
自動化等離子清洗機清洗流程
半導體器件放置:將需要清洗的半導體器件放置在清洗室中。
真空處理:使用真空泵系統(tǒng)將清洗室的環(huán)境壓強降低到一定程度。
加氣體:通過氣體控制系統(tǒng)加入氫氣、氧氣等氣體,使其在高頻電場的作用下轉(zhuǎn)化為等離子體。
清洗:等離子體中的離子和自由基與表面的有機物、金屬等雜質(zhì)發(fā)生反應,將其分解、氧化、還原等,最終清除表面雜質(zhì)。
氣體清除:清洗結(jié)束后,通過氣體控制系統(tǒng)排出氫氣、氧氣等氣體,避免對半導體器件造成影響。
通氣:使用真空泵系統(tǒng)將清洗室內(nèi)的氣體排出,恢復環(huán)境壓強。
取出器件:將清洗完的半導體器件取出。
自動化等離子清洗機注意事項
1、溫度:不同產(chǎn)品對溫度的能耐程度是不一樣的,所以要考慮冷卻,控制處理室內(nèi)的溫度。
2、時間:處理時間是經(jīng)過驗證的,不要隨意進行改動以免影響處理效果。
3、氣體:不同氣體的處理效果不一,合適的氣體配方才能獲得好的處理效果。
等離子體清洗對器件表面有一定的腐蝕作用,可能會對器件造成損傷,需要注意清洗條件和清洗時間的控制。

半導體器件放置:將需要清洗的半導體器件放置在清洗室中。
真空處理:使用真空泵系統(tǒng)將清洗室的環(huán)境壓強降低到一定程度。
加氣體:通過氣體控制系統(tǒng)加入氫氣、氧氣等氣體,使其在高頻電場的作用下轉(zhuǎn)化為等離子體。
清洗:等離子體中的離子和自由基與表面的有機物、金屬等雜質(zhì)發(fā)生反應,將其分解、氧化、還原等,最終清除表面雜質(zhì)。
氣體清除:清洗結(jié)束后,通過氣體控制系統(tǒng)排出氫氣、氧氣等氣體,避免對半導體器件造成影響。
通氣:使用真空泵系統(tǒng)將清洗室內(nèi)的氣體排出,恢復環(huán)境壓強。

自動化等離子清洗機注意事項
1、溫度:不同產(chǎn)品對溫度的能耐程度是不一樣的,所以要考慮冷卻,控制處理室內(nèi)的溫度。
2、時間:處理時間是經(jīng)過驗證的,不要隨意進行改動以免影響處理效果。
3、氣體:不同氣體的處理效果不一,合適的氣體配方才能獲得好的處理效果。

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