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plasma等離子清洗設(shè)備介紹

返回列表 來(lái)源：普樂(lè)斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2023-04-12 15:14【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：plasma等離子清洗設(shè)備是一種利用高能等離子體進(jìn)行表面清洗和處理的設(shè)備；設(shè)備在真空環(huán)境下進(jìn)行運(yùn)行，將氣體激發(fā)成等離子體與物體表面進(jìn)行反應(yīng)，帶來(lái)化學(xué)、物理等多種性質(zhì)效果，達(dá)到表面清洗、表面活化的目標(biāo)。
plasma等離子清洗設(shè)備（等離子清洗機(jī)）是一種利用高能等離子體進(jìn)行表面清洗和處理的設(shè)備；設(shè)備在真空環(huán)境下進(jìn)行運(yùn)行，將氣體激發(fā)成等離子體與物體表面進(jìn)行反應(yīng)，帶來(lái)化學(xué)、物理等多種性質(zhì)效果，達(dá)到表面清洗、表面活化的目標(biāo)。
plasma等離子清洗設(shè)備
plasma等離子清洗設(shè)備特點(diǎn)
1. 高效清洗：有效去除表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物，不會(huì)對(duì)被清洗物造成機(jī)械損傷。
2. 清洗質(zhì)量高：具有很強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)性和選擇性，能夠進(jìn)行特定污染物的處理。
3. 無(wú)殘留物：不會(huì)在被清洗物表面留下任何殘留物。
4. 操作簡(jiǎn)便：具有自動(dòng)化控制系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單方便，可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)。
5. 適用范圍廣：適用于多種材料的清洗和表面改性，包括金屬、半導(dǎo)體、玻璃、陶瓷等。
plasma等離子清洗設(shè)備
plasma等離子清洗設(shè)備參數(shù)
設(shè)備型號(hào)：PM/R-110LN
控制系統(tǒng)：PLC（標(biāo)配）/PC（可選）
整機(jī)規(guī)格：W1000×D1200×H1700mm
腔體尺寸： W500×D500×H450mm
真空計(jì)：皮拉尼式真空計(jì)
額定功率：5KW
機(jī)臺(tái)供電：AC-380V
plasma等離子清洗設(shè)備
plasma等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、光電、醫(yī)療、航空航天等領(lǐng)域的制造和研究中。其中，等離子體清洗技術(shù)已成為半導(dǎo)體微電子制造過(guò)程中不可或缺的工藝之一，可以有效地去除器件表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物，提高器件的可靠性和性能。

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    ‌高效徹底‌：能夠深入微納米級(jí)孔隙中，徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌：無(wú)需使用化學(xué)溶劑，減少?gòu)U水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

    ‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌：通過(guò)調(diào)整工作氣體種類(lèi)、壓力、功率等參數(shù)，可精確控制清洗過(guò)程‌。


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