低壓真空等離子清洗機(jī)清洗有哪些缺點(diǎn)？

來(lái)源：普樂斯瀏覽：次發(fā)布日期：2021-03-24 08:58【大中小】

文章導(dǎo)讀：低壓真空等離子清洗機(jī)清洗工藝已被廣泛應(yīng)用于晶圓加工、芯片封裝、傳感器、精密電子和醫(yī)療器械等領(lǐng)域，其優(yōu)點(diǎn)多多，例如不會(huì)改變材料表面特性和外觀，能夠?qū)Σ牧献龅綇氐浊逑?，工藝可控，沒有污水排放，對(duì)環(huán)境比較友好等等。比之于傳統(tǒng)的濕式清洗方法，無(wú)疑是比較先進(jìn)的工藝。難道這種工藝就沒有任何缺點(diǎn)嗎？我們說(shuō)，凡事都具有兩面性，等離子清洗機(jī)清洗工藝也有其局限性，今天我們普樂斯的小伙伴就來(lái)探討一下等離子清洗機(jī)有哪些缺點(diǎn)。

低壓真空等離子清洗機(jī)清洗工藝已被廣泛應(yīng)用于晶圓加工、芯片封裝、傳感器、精密電子和醫(yī)療器械等領(lǐng)域，其優(yōu)點(diǎn)多多，例如不會(huì)改變材料表面特性和外觀，能夠?qū)Σ牧献龅綇氐浊逑?，工藝可控，沒有污水排放，對(duì)環(huán)境比較友好等等。比之于傳統(tǒng)的濕式清洗方法，無(wú)疑是比較先進(jìn)的工藝。難道這種工藝就沒有任何缺點(diǎn)嗎？我們說(shuō)，凡事都具有兩面性，等離子清洗機(jī)清洗工藝也有其局限性，今天我們普樂斯的小伙伴就來(lái)探討一下等離子清洗機(jī)有哪些缺點(diǎn)。

眾所周知，低壓真空等離子清洗機(jī)清洗是指在低壓真空環(huán)境下，工藝氣體受到電場(chǎng)激勵(lì)發(fā)生碰撞而離解、激發(fā)和電離，形成由電子、離子、光子、基態(tài)原子和分子等粒子組成的具有電氣性能和化學(xué)特性的聚集體，即低溫等離子體；這些等離子體與潔凈的材料表面發(fā)生物理、化學(xué)反應(yīng)，形成揮發(fā)性的物質(zhì)被氣流帶走，在改善材料表面能的同時(shí)能讓其表面變得更加干凈（超純度清洗）。請(qǐng)注意，3個(gè)關(guān)鍵詞：“低壓真空環(huán)境”、“工藝氣體”和“潔凈的材料表面”，我們將從這三個(gè)方面來(lái)展開，說(shuō)說(shuō)低壓真空等離子清洗機(jī)清洗的缺點(diǎn)。

1 低壓真空等離子清洗機(jī)清洗必須要抽真空，并維持一定的真空度

低氣壓狀態(tài)下，隨著真空度的提高，氣體分子之間的距離加大，更容易被電離；維持一定的真空度，對(duì)于等離子體的濃度和密度是有好處的。材料放置在真空環(huán)境中，材質(zhì)密度會(huì)影響抽真空的時(shí)間和效率；對(duì)于密度小，容易滲氣的材料抽真空時(shí)間會(huì)比較長(zhǎng)。

2 低壓真空等離子清洗機(jī)清洗對(duì)工藝氣體等工藝參數(shù)的設(shè)定要求比較高

影響低壓真空等離子清洗機(jī)清洗效果的因素比較多，不僅僅是要選擇合適的工藝氣體和氣體比例，需要設(shè)定的工藝參數(shù)考慮因素蠻多，包括處理時(shí)間、功率和真空度，離子發(fā)生器的頻率、電極結(jié)構(gòu)等等。沒有扎實(shí)的理論基礎(chǔ)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，要想優(yōu)化好對(duì)應(yīng)的工藝參數(shù)顯然比較難。

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‌高效徹底‌：能夠深入微納米級(jí)孔隙中，徹底清除難以觸及的污染物。

‌環(huán)保節(jié)能‌：無(wú)需使用化學(xué)溶劑，減少?gòu)U水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

‌工藝可控‌：通過(guò)調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù)，可精確控制清洗過(guò)程‌。
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