普樂(lè)斯關(guān)注并看好芯片制造的巨大潛力
文章導(dǎo)讀：根據(jù)IC Insight的報(bào)告，中國(guó)是全球最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)，預(yù)計(jì)到2024年將占據(jù)全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的40%，與此同時(shí)，預(yù)計(jì)在2024年，中國(guó)市場(chǎng)所使用芯片的國(guó)產(chǎn)化率將達(dá)到20.7%。在普樂(lè)斯看來(lái)，這兩組數(shù)據(jù)充分說(shuō)明了中國(guó)芯片市場(chǎng)，特別是芯片制造市場(chǎng)的巨大潛力。
根據(jù)IC Insight的報(bào)告，中國(guó)是全球最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)，預(yù)計(jì)到2024年將占據(jù)全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的40%，與此同時(shí)，預(yù)計(jì)在2024年，中國(guó)市場(chǎng)所使用芯片的國(guó)產(chǎn)化率將達(dá)到20.7%。在普樂(lè)斯看來(lái)，這兩組數(shù)據(jù)充分說(shuō)明了中國(guó)芯片市場(chǎng)，特別是芯片制造市場(chǎng)的巨大潛力。
在過(guò)去發(fā)展的數(shù)十年當(dāng)中，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)生了許多變化。其中，晶圓代工廠的崛起使得半導(dǎo)體行業(yè)的制造中心向亞洲轉(zhuǎn)移。近些年來(lái)，芯片制造這一話題備受業(yè)界關(guān)注，而，與芯片制造相關(guān)的半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體設(shè)備等方面的發(fā)展均受到了業(yè)界的關(guān)注。這些領(lǐng)域被業(yè)界視為是半導(dǎo)體上游市場(chǎng)，也是芯片制造的關(guān)鍵，對(duì)于材料和設(shè)備的發(fā)展而言，過(guò)濾、分離市場(chǎng)則是這些領(lǐng)域的一個(gè)重要組成部分。
眾所周知，光刻是半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)驅(qū)動(dòng)力，包括 DUV 光刻膠，頂部和底部抗反射涂層，浸沒(méi)式光刻的應(yīng)都推動(dòng)了工藝的進(jìn)步。但在這個(gè)過(guò)程當(dāng)中，每個(gè)步驟都有可能在晶圓表面引入有害顆粒污染、微氣泡空隙缺陷和金屬污染。這就使得光刻膠制造商需要粗濾過(guò)濾器和終端用戶使用的終端分配過(guò)濾器，來(lái)防止非預(yù)期顆粒在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中沉積到晶圓表面。
此外，芯片制造過(guò)程中所采用的其他材料也會(huì)影響最終晶圓生產(chǎn)的良率。其中包括了對(duì)晶圓表面平整度的要求的提升，因此，也促生了對(duì)CMP拋光材料的需求。而過(guò)濾器則是拋光系統(tǒng)中重要的一部分——一般情況下，半導(dǎo)體拋光系統(tǒng)內(nèi)通常需要3個(gè)漿料過(guò)濾器，用以去除較大的研磨顆粒，并維持所需的研磨顆粒配方和化學(xué)構(gòu)成，實(shí)現(xiàn)許多不同半導(dǎo)體工藝性能的最大化。
對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備本身來(lái)說(shuō)，化學(xué)品對(duì)設(shè)備的侵蝕同樣也需要過(guò)濾器來(lái)保障其使用壽命?？刂屏黧w發(fā)生污染會(huì)導(dǎo)致設(shè)備關(guān)機(jī)，甚至?xí)绊懮a(chǎn)效率，因此污染控制是半導(dǎo)體器件制造中最重要的問(wèn)題之一。而過(guò)濾器則可將流體污染物降至最低，避免關(guān)鍵零件遭到破壞，確保機(jī)臺(tái)以峰值效率進(jìn)行工作。
在這種勢(shì)頭之下，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的成長(zhǎng)也為普樂(lè)斯帶來(lái)新的發(fā)展機(jī)會(huì)。改革開放40年來(lái)，中國(guó)已經(jīng)在諸多領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了從量變到質(zhì)變的突破，同時(shí)中國(guó)早已成為全球最大的電子消費(fèi)品市場(chǎng)，全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)制造中心，在政策引導(dǎo)、資金支持、終端推動(dòng)，三大合力之下，中國(guó)必將成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的中堅(jiān)力量。
本文來(lái)自于半導(dǎo)體行業(yè)觀察，
如有侵權(quán)，請(qǐng)聯(lián)系管理員，我們將予以刪除！
普樂(lè)斯電子12年專注研制等離子清洗機(jī)，等離子體清洗機(jī)，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備，大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng)，大氣常壓收放卷等離子表面設(shè)備處理，已通過(guò)ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問(wèn)，歡迎點(diǎn)擊普樂(lè)斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂(lè)斯隨時(shí)恭候您的來(lái)電！
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此外，芯片制造過(guò)程中所采用的其他材料也會(huì)影響最終晶圓生產(chǎn)的良率。其中包括了對(duì)晶圓表面平整度的要求的提升，因此，也促生了對(duì)CMP拋光材料的需求。而過(guò)濾器則是拋光系統(tǒng)中重要的一部分——一般情況下，半導(dǎo)體拋光系統(tǒng)內(nèi)通常需要3個(gè)漿料過(guò)濾器，用以去除較大的研磨顆粒，并維持所需的研磨顆粒配方和化學(xué)構(gòu)成，實(shí)現(xiàn)許多不同半導(dǎo)體工藝性能的最大化。
對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備本身來(lái)說(shuō)，化學(xué)品對(duì)設(shè)備的侵蝕同樣也需要過(guò)濾器來(lái)保障其使用壽命?？刂屏黧w發(fā)生污染會(huì)導(dǎo)致設(shè)備關(guān)機(jī)，甚至?xí)绊懮a(chǎn)效率，因此污染控制是半導(dǎo)體器件制造中最重要的問(wèn)題之一。而過(guò)濾器則可將流體污染物降至最低，避免關(guān)鍵零件遭到破壞，確保機(jī)臺(tái)以峰值效率進(jìn)行工作。
在這種勢(shì)頭之下，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的成長(zhǎng)也為普樂(lè)斯帶來(lái)新的發(fā)展機(jī)會(huì)。改革開放40年來(lái)，中國(guó)已經(jīng)在諸多領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了從量變到質(zhì)變的突破，同時(shí)中國(guó)早已成為全球最大的電子消費(fèi)品市場(chǎng)，全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)制造中心，在政策引導(dǎo)、資金支持、終端推動(dòng)，三大合力之下，中國(guó)必將成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的中堅(jiān)力量。
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