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晶圓光刻膠去除能用等離子清洗機嗎？該使用哪種設備？

來源：普樂斯瀏覽：次發(fā)布日期：2020-10-21 09:44【大中小】

文章導讀：在半導體行業(yè)中，晶圓清洗是一個必不可少的環(huán)節(jié)，其中晶圓殘留光刻膠的去除，就能夠用等離子清洗機進行處理的。那么晶圓光刻膠去除所用的等離子清洗設備該用哪種呢？

在晶圓光刻膠去除的實際應用中，基本都會采用感應耦合式的真空低壓等離子清洗機，這種類型的等離子清洗機仿佛也逐漸成為半導體行業(yè)的專屬，那么這類等離子清洗設備的結構和一般常見的等離子處理設備有什么不同的地方呢？

等離子清洗機感應放電等離子體是通過將射頻功率加在一個非共振線圈上產生的。因此該種等離子清洗機的常見結構主要有兩種，都適用在低長寬比的放電系統(tǒng)中。其中一種常見結構是螺旋型結構，采用的是圓筒螺旋狀線圈類型，如下圖所示。

另一種常見結構是盤香型結構，采用的是平面盤繞狀線圈類型如下圖所示。

此外，有一種較為特別的盤香型結構是將盤繞狀線圈加入等離于體內部的放電類型，其結構如下圖所示。

感應耦合式的等離子清洗設備具有較為特別的基本原理和特點，因此在設計過程中要對工藝和效率進行把控，才能保證良好的等離子表面處理效果。在此簡單提一點，用于處理LCD液晶屏的等離子清洗機，就是使用的內置盤繞狀線圈感應生成等離子體。
普樂斯從2011年開始涉足半導體行業(yè)至今已有9年，專注研制等離子清洗機，等離子體清洗機，等離子清洗設備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機，在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經驗，合作客戶接近20家，我們正努力成為半導體封裝領域的等離子表面處理工藝解決方案服務商。是行業(yè)內值得信賴的等離子清洗機廠家。等離子表面處理過的樣品包括：硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關于產品的詳細內容或在設備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！

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