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為你圖解真空等離子表面處理設(shè)備的鞘層模型

返回列表 來(lái)源：普樂斯 瀏覽：次 發(fā)布日期：2020-10-12 09:40【大 中 小】
文章導(dǎo)讀：等離子表面處理系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)材料及產(chǎn)品的等離子表面改性處理，關(guān)于真空等離子表面處理設(shè)備的等離子體鞘層研究，始終是工藝發(fā)展的一項(xiàng)重點(diǎn)，目前常使用計(jì)算機(jī)模擬來(lái)對(duì)等離子體粒子進(jìn)行模擬，接下來(lái)我們從一些簡(jiǎn)化的圖片介紹來(lái)了解一下平行平板式的真空等離子表面處理設(shè)備的鞘層。
       在真空等離子表面處理設(shè)備對(duì)相應(yīng)材料進(jìn)行等離子處理時(shí)，系統(tǒng)所產(chǎn)生的等離子體會(huì)跟金屬、電介質(zhì)等固體進(jìn)行接觸，所接觸的交界區(qū)域產(chǎn)生一定的空間電荷層，而這種空間電荷層，就是所說(shuō)的鞘層。
普樂斯真空等離子表面處理設(shè)備
       一般來(lái)說(shuō)，這層空間電荷層，或者說(shuō)鞘層的厚度約為德拜長(zhǎng)度的幾倍。從粒子擴(kuò)散速度來(lái)看，電子相對(duì)會(huì)比離子要快，因此在容器壁上就會(huì)累積負(fù)電荷。而屏蔽這些負(fù)電荷形成的電場(chǎng)，就需要在跟德拜長(zhǎng)度相當(dāng)?shù)膮^(qū)域內(nèi)形成正的空間電荷層，也就是正離子鞘層。
       平行平板式的真空等離子表面處理設(shè)備的真空腔體，是以一個(gè)軸對(duì)稱的中心饋入頭接地的高頻電源去激發(fā)平行平板電極的等離子體，如下圖所示。
真空等離子表面處理系統(tǒng)垂直平行平板電極放電模擬狀態(tài)
       電位以及位置和時(shí)間的關(guān)系如下圖，黃色線表示相位角θ=0時(shí)的電位分布，橙色線則對(duì)應(yīng)于相位角θ=π時(shí)的電位分布情況。等離子表面處理設(shè)備所產(chǎn)生的等離子體和鞘層是真空腔體的中心面對(duì)稱分布的。此時(shí)在平板式的真空腔體的中心存在著準(zhǔn)中性的等離子體，其電場(chǎng)強(qiáng)度及能量耗散都很低，等離子體兩測(cè)的鞘層內(nèi)，電位和電場(chǎng)為振蕩型。
真空等離子表面處理系統(tǒng)中相差180°的兩個(gè)相角處的鞘層和電位分布
       在平行平板式等離子表面處理系統(tǒng)的真空腔體中，功率密度和電子數(shù)密度是對(duì)稱分布的，鞘層中的電場(chǎng)很強(qiáng)，因而該區(qū)域的大量高頻功率轉(zhuǎn)換到等離子體的電子上。然而電子在X方向上振蕩往復(fù)運(yùn)動(dòng)，在鞘層中所獲得的速度會(huì)在等離子體內(nèi)部逐漸耗散掉，中心的電子數(shù)密度往往很高。如果趨膚深度和電子-中性粒子平均自由程不太小，則鞘層中的電子數(shù)密度很低，如下圖。
真空等離子表面處理系統(tǒng)中激勵(lì)高頻放電的功率密度和電子數(shù)密度分布曲線
       普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機(jī)，等離子體清洗機(jī)，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機(jī)，大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng)，大氣常壓收放卷等離子表面處理設(shè)備，已通過(guò)ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來(lái)電！

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